| ホーム | 会社案内 | 製品紹介 | 採用情報
>お問い合わせ
ご挨拶
会社概要
開発経歴
アクセス
ホーム>会社案内>開発経歴
1987年
会社設立
1988年
EPMA用SEM
1992年
研究開発用EB装置
静電型高分解能SEM
二次元原器製造用EB描画装置
1993年
マスク・ウェハ高精度破断装置
イオンポンプバックアップ電源
VME BUS Mini-EOC Driver
1995年
UHV対応Mini-EOC
粒子線鏡筒
1996年
観測ロケット搭載用電子銃
可変整形型EB描画装置用仕切弁
1997年
イオンスパッタ・プラズマコーター
1998年
電子銃用テスター電源
1999年
汎用SEM
Lab6用80kV超高安定電源
Mini-EOC要素技術開発
2000年
UHV対応SED
次世代低加速EB描画装置
描画装置用高エミッタンスFE電子銃
2003年
表面解析用拡大EOC
超高安定Mini-EOC Driver
特性X線検出器
SEM用収差補正検出器
2004年
超小型電子線源
ZrO/W輝度測定装置
潜像SEM開発
2005年
冷陰極FE電子銃テスト装置
2007年
CFE超高分解能SEM
2011年
回転バイプリズムホルダ
Copyright 2009 APCO.Ltd. All rights reserved.