Consulting for Semiconductor Proccess
○半導体デバイス
○Ｓｉウェハー
○製造装置
○洗　浄
○分析方法

○半導体デバイス
　試作・分析・評価・不良解析・歩留り向上対策、ニューデバイス検討
　汚染分析・汚染対策、クリーン化・クリーンルーム環境改善
○シリコンウェハー
　試作・分析・評価・評価方法・不良解析、汚染対策・洗浄方法
○製造装置
　材料・部品の分析評価、ニューマテリアル検討
○自動化
　これまで出来なかったプロセスの自動化
　コストを考慮した自動化、必要なら手作業も残します
○洗　浄
　洗浄方法検討・洗浄装置設計製作・洗浄システム考案
○不良解析
　不良や欠陥が発見された際、なぜ？どこで？問題が起こっている
　のか、最適な分析手法を駆使することにより明らかにします。
○分析方法
　また、常識にとらわれず、新たな分析方法の検討を行います。

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　半導体／ＭＥＭＳ用の拡散炉（酸化炉）を設計・製作いたします。
　※シリコンウェハー用：Φ２〜１２インチまで
　研究開発用〜量産用に至るまで、利用者のニーズをくみ取った拡散炉をご提供いたします。
　近年縦型が主流の拡散炉ですが、研究開発や小規模生産には横型拡散炉が重宝がられています。
　横型の便利なところは、ワークサイズに柔軟に対応できる点、ボートを変更するだけで多種多様なものに対応できるところです。

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一口にクリーンルームと言っても千差万別。
ＴＰＯにより要求されるものは多様です。
オーバースペックで設備コストを浪費したり、逆に能力が足りなかったり。
目的に適した環境が最善です。
クリーンルームのクラス種別については以下の表を参照下さい。

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曳糸性、耳慣れないことばですが、簡単に言うと「ネバネバ度」。
この「ネバネバ度」を測定するのが曳糸性測定機。
これまでは液体を親指と人差し指の間に置いて、その粘りを指と糸を曳く状態で調べていましたが、その方法を機械化した粘性測定機です。粘りを曳糸性に換えて測定するので「曳糸性測定機」と表現します。

曳糸性の様態を物理的に測定します。液体を引き上げる過程で、糸曳き現象の進行に従って細くなっていく様子を特殊なセンサーで監視し、やがて破断する瞬間を捉えます。その時の破断長を10-2mmの単位で高精度に表現します。

半導体材料への曳糸性測定を取り入れることで画期的な効果が現れます。
low-k材、レジスト材、ポリマー、インク、スラリー等の研究や品質管理に用いることができます。
例えばスピンコーターで塗布する材料、粘度や密度で管理していたものに曳糸性管理のファクターを取り入れると、品質管理の向上が図れます。

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このウェハー移載機の大きな特徴は、省スペースと低価格。マルチ対応機構を備え４、５、６、８インチのウェハーの処理が可能。
独特の搬送メカニズムによりこのような少ないフットプリントで抑えることができました。

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　分析に関することでお困りのことがありましたら、どんなことでも結構ですので、
　お気軽にお問い合わせください。
　分析の専門家集団があなたの問題を即座に解決してくれます！
　「中村経営コンサルタント事務所のホームページで見た」と言われると優遇してもらえます。