本名 津田 幸宏
昭和33年大阪府泉北郡高石町(現高石市)生まれ
通信技術者であった父親の影響で理系を志す(二代目、ということになるか?)
昭和51年 東京都立武蔵高等学校卒業
55年 東北大学工学部応用物理学科卒業(一回落第(^^;
卒業論文テーマは、遷移金属のX線吸収スペクトルの理論
ただし、周囲からは「東北大学応援団卒業」と言われる(今だに言われることがある^^;
58年 東北大学大学院工学研究科応用物理専攻で修士取得
修士論文テーマは、希土類金属の表面電子状態の理論
同年 (株)小松製作所(現コマツ)入社・技術研究所(現中央研究所)にて
光ファイバジャイロ・レーザダイオード・無機薄膜ELディスプレィ等の研究に従事(公開公報を見れば一撃でわかってしまう。)
最も売れた研究成果は液晶マスク型レーザマーカ。これに関して第57回注目発明に選定される
平成7年 知的財産部に異動・技術者から足を洗う
レーザマーカ・光学機器・画像認識ソフトウェア部門の知財業務に従事
平成9年 コマツ電子金属(株)に出向・シリコンウェーハ製造に関する知財業務全般に従事
平成11年 弁理士試験合格・登録(登録番号11532号・結局多枝4回・論文3回受験)
同年 NIFTY・FLIC#9・弁理士受験会議室で副議長を務める
以後、弁理士・知財業界人の集まりでは、本名よりもハンドルの方が通用するようになった(^_^)
平成15年 出向解除・コマツ研究本部知的財産部にて勤務
以下、現在に至る。
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