---

☆★全自動枚葉式インライン対応型で光アッシングと真空減圧乾燥装置等がビルトインされ
　　卓越したスペックを持つ新次世代型光アッシング装置も開発可能とする。

　　＊現在の半導体の製造技術は、ウエハの上に回路を積層するプロセスの上で、レジスト液・
　　ポリマー液等々の薬液を使用しておりますが、その薬液が残留の状態で次へのプロセスを行い
　　ますと、ウエハ上に生成されたパターンがショートを起こしたり致します。
　　ウエハ上に残留する不要な物質は、レジスト液・ポリマー液を除去する際にプラズマを飛ばし、
　　アッシングすることで問題が発生致します。

☆★驚異的な スループット：15sec〜18sec が可能なスモ−ル・パッケ−ジサイズの
　　NEW”EAST-2000X-500”ライン型カセット・ツ−・カセット方式の全自動枚葉式スピン
　　超音波洗浄装置。


☆★ＮＥＷ・η-DETECTOR（ニュー・ナノ-デテクタ−）は主にシリコンウエハ基板の熱処理後に
　　発生する　”エピ・スリップ”と”マイクロ・エピ・スリップ”（極微小欠陥）欠陥検査を高感度
　　と被写界深度を持つマクロ光学系にて検出する検出画像装置。

　　　　　　　 　　

　　





　　　 　

☆★η-DETECTOR（ナノ-デテクタ−）はシリコン＆ＳｉＣ＆サファイア基板表面等を検出する
　　キズ欠陥検出画像装置と平坦度測定装置。